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            花印舒緩修護面膜

            花印舒緩修護面膜
            • 成分表(共29種成分)
            花印舒緩修護面膜成分表來自備案信息
            低風險24種 中風險5種 高風險0種
            • 含有孕婦慎用:1種   ( PEG-60 氫化蓖麻油 )
            • 含有防腐劑:2種   ( 苯氧乙醇、 羥苯甲酯 )
            • 含有致痘風險:1種   ( 三乙醇胺 )
            名稱 安全等級 成分提示 作用
            1 溶劑
            甘油 2 保濕劑 溶劑
            丁二醇 1 保濕劑 溶劑 抗菌劑
            雙丙甘醇 2 保濕劑 溶劑
            PEG-60 氫化蓖麻油 3

            孕婦慎用

            表面活性劑 乳化劑 溶劑 清潔劑
            苯氧乙醇 4

            防腐劑

            防腐劑 抗菌劑
            出芽短梗酶多糖 1 成膜劑
            羥苯甲酯 4

            防腐劑

            防腐劑
            卡波姆 1 增稠劑 凝膠劑 乳化穩定劑
            三乙醇胺 6

            致痘風險 1

            pH調節劑
            甘草酸二鉀 1

            活性成分

            舒緩抗敏 抗炎劑 保濕劑
            黃原膠 1 增稠劑 乳化穩定劑
            香檸檬果油 2

            活性成分

            皮膚調理劑 柔潤劑
            EDTA 二鈉 1 螯合劑
            羥苯乙酯 3 防腐劑
            生育酚(維生素E) 1

            活性成分

            抗氧化劑 保濕劑
            透明質酸鈉 1

            活性成分

            保濕劑 皮膚調理劑
            可溶性膠原 1

            活性成分

            保濕劑 皮膚調理劑 抗靜電
            甜菜堿 1 保濕劑 抗靜電 黏度控制
            PCA 鈉 1

            活性成分

            保濕劑 皮膚調理劑 抗靜電 頭發調理劑
            山梨(糖)醇 1 保濕劑 皮膚調理劑
            絲氨酸 1

            活性成分

            保濕劑 抗靜電
            甘氨酸 1

            活性成分

            保濕劑 皮膚調理劑 抗靜電
            谷氨酸 1

            活性成分

            保濕劑 皮膚調理劑
            丙氨酸 1

            活性成分

            抗氧化劑
            精氨酸 1

            活性成分

            pH調節劑 保濕劑 抗靜電劑 頭發調理劑
            賴氨酸 1

            活性成分

            保濕劑 皮膚調理劑
            蘇氨酸 1

            活性成分

            保濕劑 皮膚調理劑
            脯氨酸 1

            活性成分

            皮膚調理劑
            花印舒緩修護面膜備案參數
            • 備案名稱:花印舒緩修護面膜
            • 備案編號:國妝備進字J20171593
            • 生產企業:株式會社科思美碧優蒂
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